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面議主要技術(shù)參數(shù) 產(chǎn)品名稱 5KV/2A/10KW二極濺射鍍膜電源 WT10-5K 產(chǎn)品型號 WT10 產(chǎn)品品牌 躍遷 電源類型 全數(shù)控智能電源 輸入電壓: AC380V±10% 輸出 功率:..08月19日
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1200.00元氧化鋁靶材Al2O3 Target 陶瓷濺射靶材 氧化鋁顆粒 氧化鋁靶材 三氧化二鋁靶材 純度:99.99% 分子式:Al2O3 分子量:101.96 CAS號:1344-28-1 密度:4 熔點(diǎn):2045℃ 折射率:1.6-1.65..12月13日
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1500.00元氧化鎂靶材 MgO靶材 氟化鎂靶材 陶瓷濺射靶材 北京金源新材科技有限公司專業(yè)從事高純金屬材料生產(chǎn),采用電子束熔煉,區(qū)間熔煉,特殊熔煉,濕法提純,化學(xué)提純等工藝,高純金屬純度達(dá)到99.99%-99.907月31日
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中國集成電路濺射靶材市場運(yùn)營現(xiàn)狀及投資戰(zhàn)略研究報告2021-2026年 ******************************************** < 314138 < 2021年5月 < 電子版或特快專遞 < 中研..05月04日
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中國濺射靶材產(chǎn)業(yè)運(yùn)行狀況與發(fā)展趨勢預(yù)測報告2021-2026年 ********************************************** * 445723 * 2021年4月 * 產(chǎn)業(yè)經(jīng)濟(jì)研究院 * 電子版或特快專遞 * 269..05月04日
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與中國氮化鋯濺射靶行業(yè)動態(tài)規(guī)劃與未來發(fā)展?jié)摿蟾?024-2030年【全新修訂】:2024年3月【出版機(jī)構(gòu)】:中智信投研究網(wǎng)【內(nèi)容部分有刪減·詳細(xì)可參中智信投研究網(wǎng)出版完整信息!】【報告價格】..05月04日
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中國貴金屬濺射靶材市場發(fā)展前景與投資規(guī)模分析報告2022-2028年mm&mm鴻**mmm晟&mmm信**mmm合&mmm研**mmm究&mmm院**mmmmmm【全新修訂】:2023年02月【報告價格】:[紙質(zhì)版]:6500元 [電子版]:68..05月04日
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純度金屬濺射靶材市場現(xiàn)狀調(diào)研與發(fā)展前景分析報告2023-2028年 【報告編號】:21545 【出版時間】:2022年12月 免費(fèi)售后服務(wù)一年,具體內(nèi)容及訂購流程歡迎咨詢客服純度金屬濺射靶材市場概述1.1 ..05月04日
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11000.00元鄭州 ULVAC愛發(fā)科MEX?N系列高頻電源MEX-2N-1k MEX-3N-1k匹配 RF 濺射 ULVAC愛發(fā)科MEX?N系列高頻電源MEX-2N-1k MEX-3N-1k匹配 RF 濺射 ULVAC愛發(fā)科MEX?N系列高頻電源MEX-2N-1k MEX-3N-1k匹..04月18日
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165.00元其基本成分 Ni 95% Al 5%。狀態(tài)為經(jīng)過預(yù)合金化的實(shí)心絲。 955制備的結(jié)合底層存在于基體與工作涂層之間,良好的冶金結(jié)合既提高了與基體的結(jié) 合力又提供了一個粗糙的表面給工作層,對于04月02日
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蘇州南京廣東深圳北京高純鎳濺射鍍膜靶材蒸發(fā)鍍膜顆粒材料鎳旋轉(zhuǎn)靶材 英文名稱:Nickel Sputtering Target 公司生產(chǎn)的常見靶材如下: 金屬濺射鍍膜靶材: 鋁靶材Al,銻靶材Sb,鉍靶材Bi,..03月18日
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高純鎳合金鎳釩濺射鍍膜靶材93:7 wt%,蒸發(fā)鍍膜顆粒材料,鎳釩合金旋轉(zhuǎn)靶材 英文名稱:Nickel Vanadium (Ni-V) Sputtering Target,元素比例:Ni93% V7% 專注于生產(chǎn)具有最高密度和最小平均晶..03月18日
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臺灣富士康用濺射鍍膜設(shè)備轉(zhuǎn)讓雙門蒸發(fā)4靶濺射系統(tǒng)1.5米爐體 轉(zhuǎn)讓富士康真空濺射鍍膜設(shè)備4套平面濺射靶帶POLYPOLD深冷 由富士康閑置下來的磁控磁控濺射鍍膜設(shè)備帶雙門電阻蒸發(fā)系統(tǒng) 采用02月19日
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轉(zhuǎn)讓富士康真空濺射鍍膜設(shè)備4套平面濺射靶帶POLYPOLD深冷 由富士康閑置下來的磁控磁控濺射鍍膜設(shè)備帶雙門電阻蒸發(fā)系統(tǒng) 采用全不銹鋼爐體,設(shè)備直徑1400,高度1500mm采用全自動控制,全部02月19日
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100000.00元倉庫大量多弧中頻鍍膜機(jī) 1.3×1.2米多弧中頻機(jī),雙層不銹鋼爐體,2臺400擴(kuò)散泵,30KW偏壓,2對中頻,1個可移動平面磁控濺射金靶 1300米多弧中頻機(jī),雙層不銹鋼爐體,2臺400分子泵,30KW偏壓..01月23日
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連續(xù)磁控濺射鍍膜線是一種用于在各種基材表面沉積鍍膜的設(shè)備。該設(shè)備使用范圍廣,沉積速率快,可實(shí)現(xiàn)多層沉積薄膜 1.應(yīng)用領(lǐng)域廣泛應(yīng)用于AR鍍膜、ITO、變色玻璃、太陽能電池等行業(yè)的不同領(lǐng)..11月27日
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50000.00元深圳市星海威光學(xué)鍍膜設(shè)備1.應(yīng)用領(lǐng)域:手機(jī)面板、平板電腦登觸控面板。莫氏6H以上的超硬AR膜、超硬減反膜、UV/IR截止濾光片、AF防指紋膜等2.設(shè)備分為工藝室和鍍膜室兩部分工藝室劇透離子源清..11月27日
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TJ金屬掩膜版掩膜支架濺射掩膜板激光精密切割微結(jié)構(gòu)加工 產(chǎn)品名稱:掩膜板又稱為光罩、光掩膜、photo mask、光刻掩膜版、MASK等 材料材質(zhì):US304不銹鋼,301不銹鋼,316不銹鋼 材料厚度(公..04月18日
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鋯(Zirconium)是一種金屬元素,元素符號Zr,密度6.49g/cm3,熔點(diǎn)1852°C,沸點(diǎn)4377°C。鋯是一種銀白色過渡金屬,因其制取工藝復(fù)雜,不易被提取,所以也常被稱為“稀有金屬”。事實(shí)上,鋯在地殼中..01月02日
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二氧化硅(SiO2)靶材 材料 分子式 純度 (%) 密度 (g/cm3) 形狀與尺寸 二氧化硅 SiO2 99.99 2.21 圓片Φ18~30x7~18mm 圓環(huán)Φ200~350x7~18mm 石..11月10日
黃頁88網(wǎng)提供2025最新濺射價格行情,提供優(yōu)質(zhì)及時的濺射圖片、多少錢等信息。批發(fā)市場價格表的產(chǎn)品報價來源于共6家濺射批發(fā)廠家/公司提供的3235條信息匯總。